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[CS8921-0009-0001] 光致抗蚀剂脱膜剂组合物 [摘要] 一种光致抗蚀剂脱膜剂组合物,包括:10-30%(重量)的胺化合物;20-60%(重量)的二元醇类溶剂;20-60%(重量)的极性溶剂;和0.01-3%(重量)的全氟烷基乙烯氧化物。光致抗蚀剂脱膜剂组合物从基片上剥离光致抗蚀剂残渣的性能被提高了,所述残渣是由于干法或湿法蚀刻,抛光或离子注入而产生的。并且光致抗蚀剂脱膜剂组合物能被光滑地涂敷到包括铝(Al)层的各种金属层上。而且所述光致抗蚀剂脱膜剂组合物几乎不腐蚀金属层。
[CS8921-0001-0002] 水溶性感光胶版膜去鬼影脱膜剂 [摘要] 能有效、快捷地脱除印刷工业涤纶丝网上I、II型水溶性感光胶版膜及一般涤纶丝网版膜上鬼影的去鬼影脱膜剂是一个稳定的组合物体系,它由下列成分构成或包括下列成郑篈、18-91重量份的高分子降解剂,一般采用氧化力强的氧化剂;B、4-93重量份的强力混合溶剂,一般由醇类、酮类、酚类、多卤代烃和吡咯烷酮等组成,或由其中的几种组成;C、1-12重量份的表面活性剂,从阳离子型、阴离子型、非离子型或两性表面活性剂中进行选择,一般采用能维持体系酸性的市售“白猫”洗洁精;D、8-81重量份的絮凝剂,絮凝剂可从沉淀白碳黑、气相白碳黑、轻质氧化铝中任选之;E、2-90重量份的水和F、2-32重量份的添加剂,视需要而定,一般采用NaCl、液体石蜡和/或NaOH。包含NaOH的体系不具有酸性。
[CS8921-0005-0003] 用于附有压敏粘合剂的部件的解脱膜 |