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抛光剂技术专题,化学抛光剂,固体抛光剂,白米抛光剂类技术资料

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  [CS8916-0052-0001] 抛光剂及基片的抛光方法
[摘要] 本发明涉及半导体制造工序等中适于基片表面平坦化用CMP技术的抛 光剂和抛光方法。抛光剂是含有粒子和将上述粒子至少部分分散的介质的抛 光剂,上述粒子是下列之一:(1)从氧化铈、卤化铈和硫化铈中选择的,密 度为3~6克/立方厘米而且次级粒子平均粒径为1~300纳米的铈化合物, (2)四价金属氧化物。使用这种抛光剂抛光的抛光方法,活用抛光剂中粒子 的化学作用并且尽量减小机械作用,藉此能够兼容粒子引起的抛光损伤减少 和抛光速度提高。
  [CS8916-0032-0002] 包含粒状聚合物和交联聚合物粘结剂的抛光垫
[摘要] 描述了一种抛光垫,其包括(a)选自粒状热塑性聚合物(20)(例如粒状热塑性聚氨酯)、粒状交联聚合物(例如粒状交联聚氨酯和/或粒状交联聚环氧化物)及其混合物的粒状聚合物;和(b)交联的有机聚合物粘结剂(26)(例如交联的聚氨酯粘结剂和/或交联的聚环氧化物粘结剂),它将粒状聚合物(20)粘结在一起。粒状聚合物(20)和交联的有机聚合物粘结剂(26)基本上均匀分布在整个抛光垫(6)上,基于所述抛光垫(6)的总体积计,抛光垫(6)具有2%体积至50%体积的孔体积百分率。还描述了抛光垫(6)组件。
  [CS8916-0035-0003] 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺

本发明涉及到一种对不锈钢制品表面进行抛光处理所使用的化学抛光剂及其应用工艺。与现有技术相比,采用本发明,具有不产生腐蚀性气体、无毒、不污染工作环境等特点。其技术解决方案为,所述抛光剂由硫酸、草酸、柠檬酸、酸雾抑制剂A和水组成;所述应用工艺包括除油、冲洗、抛光、冲洗和干燥。本发明广泛适用于不锈钢制品表面抛光处理。
  [CS8916-0002-0004] 抛光剂和生产平面层的方法
[摘要] 采用包含SiO2的浆状物作为二氧化硅层平面化用的抛光剂。已发现,该浆状物在SiO2层抛光期间若所用硅溶胶具有双峰粒度分布则具有较高磨蚀速率。
  [CS8916-0027-0005] 抛光剂组合物
[摘要] 一种抛光剂组合物,它包含气相二氧化硅、碱性钾化合物及水,其电导率为100-5,500μs/cm。
  [CS8916-0033-0006] 硅藻土磨料抛光剂的制备方法
[摘要] 一种硅藻土磨料抛光剂的制备方法,采用优质硅藻土为原料,经回转窑熔融培烧后,经自动风选机自动风选和除渣后,再经培烧后粉碎,自动风选分级后,检验合格包装出厂。
  [CS8916-0039-0007] 用于倒装式结合在有焊料凸块晶片上预底填料的溶剂辅助抛光
[摘要] 本发明涉及用来将集成电路芯片连接到电路基片上的方法。所述方法包括直接将胶粘剂预先施加在集成电路芯片的凸块面上的步骤。所述方法也包括如下步骤:除去焊料凸块顶部的胶粘剂一些部分以暴露其接触表面;将已涂覆有胶粘剂的集成电路芯片的凸块面压在电路基片上,使凸块提供集成电路芯片和电路基片之间的导电性连接。使用溶剂协助擦拭作用除去焊料凸块顶部的胶粘剂。芯片上预涂的胶粘剂形成集成电路芯片和电路基片之间的结合。
  [CS8916-0034-0008] 抛光组合物中有机硅表面活性剂的使用
[摘要] 描述了一种水性抛光组合物,包含成膜聚合物和离子型有机硅表面活性剂。该抛光剂可施用在各种基材上,尤其是地板表面。涂层为光滑和耐污的。这种抛光组合物的性能可与目前本领域的含碳氟化合物表面活性剂的配方相媲美。
  [CS8916-0015-0009] 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
[摘要] 一种包括脲和至少一种第二种氧化剂的化学机械抛光浆料前体。该组合物还非必要地包括一种有机酸和一种磨料。还公开了一种包括至少两种氧化剂及有机酸和一种磨料的抛光浆料,以及包括过氧化氢脲、第二种氧化剂和磨料的抛光浆料。进一步公开了由该前体制备抛光浆料的方法和用这里公开的组合物从基材中除去钛、氮化钛和铝合金层的方法。
  [CS8916-0028-0010] 抛光剂组合物
[摘要] 一种抛光剂组合物,它包含气相二氧化硅、碱性钾化合物及水,其电导率为100-5,500μs/cm。
  [CS8916-0003-0011] 抛光剂组合物
  [CS8916-0004-0012] 化学机械抛光用研磨剂
  [CS8916-0030-0013] 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
  [CS8916-0043-0014] 玻化抛光地板砖清洗剂及其制备方法
  [CS8916-0054-0015] 用于化学机械抛光的二氧化铈研磨剂
  [CS8916-0022-0016] 包括钨侵蚀抑制剂的抛光组合物

  [CS8916-0046-0017] 磷酸脂改性的地板抛光剂用乳胶
  [CS8916-0020-0018] 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
  [CS8916-0049-0019] 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产
  [CS8916-0011-0020] 固体抛光剂
  [CS8916-0041-0021] 稀土盐/氧化剂为基础的化学-机械抛光方法
  [CS8916-0012-0022] 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物
  [CS8916-0023-0023] 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法
  [CS8916-0017-0024] VCD光碟片抛光剂
  [CS8916-0038-0025] 改变浆料中氧化剂的浓度进行化学机械抛光(CMP)的方法
  [CS8916-0018-0026] 聚合物作为家具抛光剂的应用
  [CS8916-0045-0027] 水基地板抛光剂用乳胶
  [CS8916-0025-0028] 混合抛光膏剂
  [CS8916-0040-0029] 适用于自抛光防污漆的具有低含量可水解单体的粘结剂
  [CS8916-0047-0030] 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
  [CS8916-0042-0031] 玻化抛光地板砖防污剂及其制备方法
  [CS8916-0053-0032] 混合研磨剂抛光组合物及其使用方法
  [CS8916-0010-0033] 一种活性抛光剂及其制备方法
  [CS8916-0021-0034] 一种化学抛光剂及其使用方法
  [CS8916-0031-0035] 抛光剂及其制造方法以及抛光方法
  [CS8916-0036-0036] 含固体催化剂的化学机械抛光的抛光垫

  [CS8916-0050-0037] 抛光砖防污剂的制膜设备及方法
  [CS8916-0009-0038] 溶胶型硅片抛光剂
  [CS8916-0007-0039] 一种快速抛光剂
  [CS8916-0044-0040] 在铜CMP中采用不包含氧化剂的抛光流体的第二步骤抛光方法
.[CS8916-0048-0041] 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物
.[CS8916-0016-0042] 白米抛光剂及其制备方法
.[CS8916-0024-0043] 光学抛光制剂
.[CS8916-0055-0044] 抛光砖专用化学抛光剂
.[CS8916-0001-0045] 用于自抛光防污漆料的无金属粘结剂
  [CS8916-0037-0046] 添加剂组合物、含有该添加剂组合物的淤浆组合物及使用该淤浆组合物抛光物体的方法
.[CS8916-0014-0047] 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法
.[CS8916-0013-0048] 抛光剂组合物
.[CS8916-0008-0049] 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法
.[CS8916-0019-0050] 半导体基片用的抛光剂
.[CS8916-0026-0051] 流体喷布式固定研磨剂抛光垫
.[CS8916-0005-0052] 抛光剂及基片的抛光方法
.[CS8916-0006-0053] 抛光剂
  [CS8916-0029-0054] 抛光剂组合物
. [CS8916-0051-0055] 使用磺化两性试剂的铜化学机械抛光溶液
. [CS8916-0056-0056] 一种抛光剂

. [CS8916-K0015-0057] 抛光剂-----[来源:涂料技术与文摘 日期:2001-02]
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  [CS8916-K0012-0097] 新型不锈钢化学抛光剂工艺研究-----[来源:电镀与精饰 日期:2002-06]
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  [CS8916-K0008-0121] 抛光剂-----[来源:涂料技术与文摘 日期:2003-06]
  [CS8916-K0047-0122] 清洗抛光剂-----[来源:技术与市场 日期:1998-05]
  [CS8916-K0048-0123] 塑料专用型液体抛光剂-----[来源:塑料工业 日期:1998-03]
  [CS8916-K0046-0124] 自流平无磨料抛光剂-----[来源:辽宁化工 日期:1998-05]
  [CS8916-K0069-0125] 汽车车体表面用抛光剂-----[来源:合成润滑材料 日期:1995-01]
  [CS8916-K0070-0126] 钢琴油漆抛光剂的探讨-----[来源:乐器 日期:1995-03]
  

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