本发明是关于铝或铝合金阳极氧化膜电解着色工艺的改进。提出了铝和铝合金阳极氧化膜青铜色系列电解着色工艺。采用直流阳极氧化，交流电解着色。电解着色液的组成为硫酸镍２０－８０克／升，硫酸锰２－２０克／升，硫酸铵２０－７０克／升，硼酸１５－３５克／升和柠檬酸铵５－３０克／升。本发明提出的着色液化学性能稳定，长期使用不会混浊或沉淀，分散能力好，温度范围宽，抗杂质离子干扰能力较强。
  [CS8883-0052-0004] 大容量钛合金脉冲微弧阳极氧化动态控制电源
[摘要] 本发明涉及一种大容量钛合金脉冲微弧阳极氧化动态控制电源，其结构由硬件和控制程序两部分组成，硬件以单板机为核心，通过变压器变比，多路输出再经控制电路有单板机主回路、主流控制电路、反馈电路、控制脉冲电路、保护电路实现对工艺要求的初始工作电压、最终工作电压、自动升压速度、工艺过程电流范围、额定恒定流值、脉冲持续时间、脉冲跟踪频率、占空比、负向脉冲、末端电压、电流下降速度及电解槽工作温度等12个参数范围和动态的控制，优点：以单板机为核心，控制灵活，精度高，电路稳定可靠，对于大容量钛合金脉冲微弧阳极氧化动态检测过程中实现了多参数，宽范围动态协调，自动匹配控制，解决了钛合金氧化膜增厚难的问题。
  [CS8883-0025-0005] 用于阳极氧化的设备及方法
[摘要] 一种用于阳极氧化的设备及使用该设备的方法，不仅在单一基片中，而且在多个膜之间，改善阳极氧化膜的膜厚及品质均匀性，所述设备包括：阴极，阳极互连线，与阳极互连线电气连接的金属薄膜，在阴极与金属薄膜之间流动的阳极氧化溶液，阳极氧化溶液必须与阴极和阳极互连线电气连接。金属薄膜可置于旋转表面上。
  [CS8883-0067-0006] 在铝或铝合金表面形成阳极氧化层的方法
[摘要] 本发明提供一种表面处理方法，其能对在任何铝材料表面上的 300～5 00μm厚的层进行机加工，该层具有高硬度、优良的耐热性和抗 菌作用。该方法特征在于，进行阳极氧化处理使用的浴液包括含有 250gr/l～350gr/l硫酸和15gr/l～25gr/l硫酸镍的水溶液，处理条 件如下：(a)浴液温度：-10℃～+25℃；(b)电压：DC100V～200V； 以及(c)电流密度：0.5A/dm²～20A/dm²。在上述浴液中还可以进一 步加入280gr/l～320gr/l的低聚合丙烯酸树脂组合物。
  [CS8883-0014-0007] 形成阳极氧化铝处表的单层碳氟化合物保护涂料
[摘要] 本发涉及一种固化形成阳极氧化铝外表的热固溶剂溶液涂料组合物，其中包括一种在挥发性有机溶剂中的碳氟化合物聚合物的分散体，该分散体用细碎的云母和铝粉（最好是耐酸的）着色，产生白色和透明的结合物，以形成阳极氧化铝的外表。这种着色的分散体含有热固的丙烯酸，以提高涂层的硬度和耐磨性。
  [CS8883-0061-0008] 使用阳极氧化工艺制造的具有三极管结构的电场发射器件及其制造方法
[摘要] 通过使用阳极氧化工艺来制造一种具有三极管结构的电场发射器件。该器件包括支撑衬底、用作该器件的阴极的底部电极层、具有多个第一亚微米孔的栅极绝缘层、具有连接到第一亚微米孔的多个第二亚微米孔的栅电极层、具有连接到第二亚微米孔的多个第三亚微米孔的阳极绝缘层、用作该器件阳极并用于密闭地密封该器件的顶部电极层、以及在第一亚微米孔中形成的多个发射器。发射器形成为与该器件的电极尽可能地紧密接触，这导致降低器件的驱动电压。
  [CS8883-0066-0009] 使用阳极氧化来制造具有精细电路图形的封装基板的方法
[摘要] 在此公开了一种使用阳极氧化来制造具有精细电路图形的封装基板 的方法。通过阳极化通过掩模工艺而打开的金属芯，氧化层被形成于金 属芯的开口区域中以使电路图形的部分彼此绝缘。此外，通过用铜来电 镀在氧化层之间提供的部分或使用丝网在氧化层之间填充导电糊而实现 了具有精细电路图形的封装基板。
  [CS8883-0019-0010] 一种铝及铝合金阳极氧化膜常温封孔液及其配制方法
[摘要] 本发明公开了一种铝及铝合金阳极氧化膜常温封孔液及其配制方法。主要是由碳酸镍、醋酸镍、氟硼酸、氢氧化钠及水配制而成。其配制方法简便，组成简单，氟离子浓度低而能自动调节，并具有不含有害物质硫酸根离子，使用ｐＨ值范围宽、封闭效果好等特点。
  [CS8883-0031-0011] 铝制品的阳极氧化处理层的标记方法
  [CS8883-0013-0012] 阳极氧化铝隔膜
  [CS8883-0060-0013] 阳极氧化铝模板中一维硅纳米结构的制备方法
  [CS8883-0053-0014] 多孔阳极氧化铝膜的自润滑处理方法
  [CS8883-0054-0015] 用于半导体处理设备中的抗卤素的阳极氧化铝
  [CS8883-0050-0016] 有序多孔阳极氧化铝模板的制备方法

  [CS8883-0059-0017] 用在半导体处理设备中的抗卤素的阳极氧化铝
  [CS8883-0037-0018] 铝电解电容器用铝箔带液体导电阳极氧化装置
  [CS8883-0027-0019] 多孔性阳极氧化的氧化铝膜的制备方法
  [CS8883-0038-0020] 电化学阳极氧化法生产汞系列矿物中成药的工艺
  [CS8883-0004-0021] 一种多孔硅的阳极氧化表面处理技术
  [CS8883-0045-0022] 铝合金制品阳极氧化预处理剂
  [CS8883-0024-0023] 使用阳极氧化的开关器件的制造方法及阳极氧化互连
  [CS8883-0047-0024] 一种铝阳极氧化膜的着色方法
  [CS8883-0048-0025] 用于提高电子器件中电子发射的阳极氧化工艺
  [CS8883-0055-0026] 在铝合金制品上快速制备阳极氧化膜的方法及设备
  [CS8883-0039-0027] 通过阳极氧化反应方法并利用阴极有机合成共反应生产烷氧基化羰基化合物的方法
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  [CS8883-0068-0031] 铝合金阳极氧化膜稀土封闭方法
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  [CS8883-0073-0034] 铝合金汽缸内壁的阳极氧化皮膜形成方法
  [CS8883-0057-0035] 表面具有导电性阳极氧化被膜的镁或镁合金制品及其制造方法
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