本实用新型涉及对挤压工序后的铝材两个表面进行抛光及打花 处理的铝材抛光打花机，其由机架、驱动装置、抛光机、打花机和电 气控制部分组成，机架将驱动装置、抛光机、打花机拼装为一体结构； 驱动装置由驱动电机连接驱动压轮组成，并于机架的前后两端部及中 间若干处装设；抛光机为若干台，装设于机架左右两侧；打花机为若 干台装设于机架上；电气部分采用PLC编程控制系统控制。本实用新 型抛光打花机对铝材采取一次送料，即可实现抛光、打花连续处理， 传送到出料口的工件直接可以装夹上架。工件不需要反复上下料操作 及往返移送，无磕碰，摩擦；本机PLC编程控制系统对抛光打花机的 传送、抛光、打花过程进行全程调整监控。
  [CS8878-0046-0004] 抛光组合物和抛光方法
[摘要] 一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
  [CS8878-0035-0005] 抛光组合物及使用它的抛光方法
[摘要] 一种抛光组合物，它含有下述组分(a)－(g)：(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料；(b)脂族羧酸；(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物；(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α－丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物；(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；(f)过氧化氢和(g)水。
  [CS8878-0047-0006] 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
[摘要] 本发明涉及一种核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法，属表面抛光加工技术领域。本发明的抛光液，包含研磨剂、氧化剂和水，其特征在于该抛光液组合物中所采用的研磨剂为核/壳型纳米复合粒子研磨剂，即以传统的研磨剂如超细氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈、氧化钛、氧化铁、金刚石、或氮化硅中的任一种为内核，以亲水性高分子链段化合物或含有极性有机官能团化合物为外壳的研磨剂。本发明的抛光液适用于存储器硬盘基片或铝磁盘的化学机械抛光，其优点是可以降低表面的粗糙度(Ra)、波纹度(Wa)，并有效减轻抛光加工对硬盘基片表面的机械损伤，从而显著消除划痕、凹坑等表面微观缺陷。
  [CS8878-0014-0007] 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
[摘要] 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法，抛光液以磷酸为基，加入缓蚀剂和活化剂。本方法无毒、温度低、再生容易。经本方法处理的焊丝各项指标与美国、加拿大、意大利等国的焊丝表面质量一致，达到国际水平，三年内均可保持同等光亮程度，厂家可直接使用，并得到高质量的焊缝，免除了各厂家原设立的脱脂、清洗等项工序和专门的清洗车间，适应高质量和 高效率的生产需要。
  [CS8878-0054-0008] 抛光组合物
[摘要] 本发明涉及一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括研磨剂，它至少含选自以下组分中的一种：氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、碳化硅、氮化硅；抛光促进剂，它至少含选自以下组分中的一种：羧乙基硫代琥珀酸、羧乙基硫代琥珀酸盐以及水。
  [CS8878-0031-0009] 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
[摘要] 一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1－50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001－10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2－5的缓冲组分，(d)水。
  [CS8878-0052-0010] 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
[摘要] 公开了一种抛光组合物用于抛光存储器硬盘的用途，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。还公开了一种抛光存储器硬盘的方法，该方法使用了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物包含水和选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的至少一种磨料，该组合物还含有丁二酸或其盐溶解于其中。
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  [CS8878-K0003-0120] 铝及铝合金无铬电解抛光-----[来源：电镀与精饰 日期：2004-05]
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  [CS8878-K0014-0123] 铝及铝合金的表面抛光-----[来源：电镀与涂饰 日期：2001-06]
  [CS8878-K0018-0124] 铝和铝合金碱性化学抛光液及工艺的研究-----[来源：上海大学学报(自然科学版) 日期：2000-04]
  [CS8878-K0021-0125] 用'优选法'改革铝制品化学抛光工艺-----[来源：电镀与精饰 日期：2000-03]
  [CS8878-K0016-0126] 国内铝制品无铬酸电化学抛光工艺开发现状-----[来源：材料保护 日期：2001-03]
  [CS8878-K0044-0127] 铝材及铝制品的化学抛光处理（2）-----[来源：轻金属 日期：1996-02]
  [CS8878-K0046-0128] 铝型材挤压模具抛光用珩磨膏的分析研究-----[来源：金刚石与磨料磨具工程 日期：1995-01]
  [CS8878-K0034-0129] 铝材及铝制品的电解抛光处理⑶(铝的抛光处理系列文章之八)-----[来源：轻金属 日期：1997-01]
  [CS8878-K0032-0130] 铝材及铝制品的电解抛光处理⑸(铝的抛光处理系列文章之十)-----[来源：轻金属 日期：1997-03]
  [CS8878-K0053-0131] 低磷酸型铝及铝合金化学抛光新工艺-----[来源：新技术新工艺 日期：1994-05]